設(shè)備儀器
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聚焦離子束電鏡
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聚焦離子束電鏡
ZEISS Crossbeam 540
Zeiss Crossbeam 系統(tǒng)將 GEMINI 鏡筒的成像和分析性能與用于納米級(jí)材料加工和樣品制備的新一代聚焦離子束相結(jié)合。借助模塊化平臺(tái)的設(shè)計(jì)理念和易于擴(kuò)展的開放式軟件架構(gòu),即便是難于成像、充電或磁性樣品,它也能高效地完成納米斷層成像和納米加工。
配有雙聚光鏡系統(tǒng),即便在低電壓和高束流下仍能提供高分辨率。借助高分辨率成像和快速分析在更短時(shí)間內(nèi)獲取更豐富的信息。同步 Inlens SE 和 EsB 成像可以提供獨(dú)特的形貌和材料襯度。
- 資料說明
■ 技術(shù)特點(diǎn):
在更短時(shí)間內(nèi)收集更豐富的信息
加快納米斷層成像和納米加工的速度:將低電壓 SEM 性能與高達(dá) 100 nA 的 FIB 束流相結(jié)合。
獲取最豐富的信息:運(yùn)用多探測(cè)器采集及 同步刻蝕與成像能力 。
使用 GEMINI 技術(shù)和可選配的 ATLAS 3D 軟件包檢測(cè)高達(dá) 50 k x 40 k 像 素的大視野范圍。
全方位流程控制
在對(duì)環(huán)境條件要求苛刻的長(zhǎng)時(shí)間實(shí)驗(yàn)中具備最高穩(wěn)定性,并能夠提供均勻一致的光束剖面。
采集時(shí)可以完成系統(tǒng)參數(shù)的實(shí)時(shí)更改,如探針電流或加速電壓,而無需對(duì)圖像進(jìn)行調(diào)整。
圖形用 戶 界面操作直觀簡(jiǎn)便。
應(yīng)用領(lǐng)域
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