Zeiss Crossbeam 系統將 GEMINI 鏡筒的成像和分析性能與用于納米級材料加工和樣品制備的新一代聚焦離子束相結合。借助模塊化平臺的設計理念和易于擴展的開放式軟件架構，即便是難于成像、充電或磁性樣品，它也能高效地完成納米斷層成像和納米加工。 配有雙聚光鏡系統，即便在低電壓和高束流下仍能提供高分辨率。借助高分辨率成像和快速分析在更短時間內獲取更豐富的信息。同步 Inlens SE 和 EsB 成像可以提供獨特的形貌和材料襯度。